第三百四十六章 挖光刻胶友商祖坟？陈星还让不让人活了？（第3 / 9页）
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还要有高纯度光刻胶吧？
龙兴科技也没有。
最后还得设计相应集体电路图，具备熟练的生产工艺吧？
前面芯片设计不好说，后面的光刻生产工艺，龙兴科技同样不具备这个条件。
“嘶！！！”
现场惊呼声，倒吸凉气声交织，宛如一场口技盛宴，每个人都贡献自己的声音。
任国非闪烁惊讶目光的同时，喃喃自语道：“这小子没开玩笑，他可能真在搞3纳米芯片。”
“这…”
雷布斯惊得说不出话。
“光源越小，能量密度越高，相对应的精准度也会越高，这就给我们光刻工程师提供了更高工艺水准芯片的温床，14纳米工艺芯片用的就是13.5纳米光源。”
“之前我也提到了，光束越集中，光刻的能量就越强，如果光刻胶抗阻型弱，是不是很容易造成半导体硅片污染？”
问题抛出，全场来宾都微微颔首，认同陈星的说法。
罗浩更是凑近雷布斯，小声感慨道：“还别说，陈老弟完全可以去高校当教授了，居然连我都听得懂什么叫光刻抗阻。”
“这就叫积累，好好学吧。”
罗浩、段勇平、陈永、王福等老总同样如此，一时间都被这个消息震慑住了。
当初陈星回应裤克，提出3纳米芯片的世纪赌约，几乎没有业内老总认为陈星可以办得到。
3纳米芯片什么概念？
这得有EUV光刻机吧？
龙兴科技没有。
雷布斯淡淡回应。
陈星不拿任何提示稿件，现场也没有提词器，却可以把光刻抗阻讲述这么透彻，要说没下苦功夫那是不可能的。
而在所有观众对光刻抗阻和光源有了一定认知后，陈星继续讲述道：“因此想要造7纳米、5纳米甚至是3纳米芯片，光刻胶的抗阻性必须要跟上工艺进度，所以我们这款10^25光刻胶理论支持…”
陈星按下手心的遥控器，LED屏幕弹出具体参数的瞬间，快速开口道：“3纳米。”
“！！！”